2024中国上海国际集成电路与半导体产业展览会
2024China Shanghai International Integrated Circuit and Semiconductor Industry Exhibition
同期召开:中国半导体发展高峰论坛
时间:2024年 11 月 18-20 日
地点:上海新国际博览中心
我国《“十四五”规划》中,明确提出要加快集成电路、芯片及半导体行业的发展,推动计算芯片、存储芯片等创新,加快集成电路设计工具、重点装备和高纯靶材等关键材料研发,推动绝缘栅双极型晶体管(IGBT)、微机电系统(MEMS)等特色工艺突破。布局战略性前沿性技术。
组委会:136 5198 3978 李先生
第一代半导体材料:
以硅(Si)、锗(Ge)为代表,在19世纪50年代,Ge主导了半导体市场,主要用在低频、低电压、中等功耗的晶体管和光电探测器,但是Ge半导体器件不耐辐照和高温,在19世纪60年代逐渐被Si器件取代,现在Si占据了超过95%的半导体器件市场,在集成电路中几乎100%的采用Si材料。
应用场景十分广泛,从尖端的CPU、GPU、存储芯片,再到各种充电器中的功率器件都可以做,但其自身特性限制了在高频高压高功率器件的应用。
第二代半导体材料:
以砷化镓 (GaAs)、磷化铟 (InP)为代表,随着以光纤通信为基础的信息高速公路和互联网的兴起,GaAs、InP等第二代半导体材料开始崭露头角。与硅相比,第二代半导体材料具有禁带宽度大、电子饱和迁移率高、光电特性好、耐高温、抗辐射等特性。磷化铟半导体激光器是光通信系统的关键器件,砷化镓高速器件更开拓了光纤及移动通信新产业。
第三代半导体材料:
以氮化镓(GaN)、碳化硅(SiC)为代表,第三代半导体材料具有更优的电子迁移率、带隙、击穿电压、高频、耐高温的特性。碳化硅材料具有非常重要的战略意义,其应用市场巨大,SiC的市场应用领域偏向1000V以上的中高电压范围,具有高压、高温、高频三大优势,比Si更薄、更轻、更小巧,主要应用于高温、高频、抗辐射、大功率器件、半导体激光器等。
第四代半导体材料:
以氧化镓(Ga2O3)为代表,作为新型的宽禁带半导体材料,氧化镓(Ga2O3)由于自身的优异性能,凭借其比第三代半导体材料SiC和GaN更宽的禁带,在紫外探测、高频功率器件等领域吸引了越来越多的关注和研究。氧化镓是一种宽禁带半导体,其导电性能和发光特性良好,因此,其在光电子器件方面有广阔的应用前景,业内对它更大的期待是用于功率器件。使用氧化镓制作的半导体器件可以实现更耐高压、更小体积、更低损耗,可以有效降低新能源汽车、轨道交通、可再生能源发电等领域在能源方面的消耗。
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